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在我国的发展过程中，半导体行业是新出现并快速进步的一个生产行业，比如研发集成电路、二极管、晶体管等，也常用于各种电子设备和系统。在半导体行业的生产过程中，由于酸洗作业和湿法刻蚀工序等使用氢氟酸、氟化铵等物料，会产生大量含氟废水。
这些含氟废水因含有各种有害物质，不仅会造成环境污染、生态破坏，还会对动植物以及人体产生不良影响，只有将废水处理进行必要的完善，才能使我国半导体行业的生产竞争能力更强。因而加强半导体行业含氟废水的处理，是企业亟需解决的环保难题。现有技术常采用加钙沉淀，但加钙一般只能将水中的氟离子去除到10-20mg/l，并且存在加药量大、污泥产量高、水中残留的钙离子结垢等问题。
为满足企业对含氟废水处理达标、高效、便捷、性价比高的需求，自主研发出深度除氟剂，无论是在运行成本、运行效率、安全性和避免产生二次污染等方面，都有着显著的应用优势。
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